无掩智刻 ——AI赋能Micro-LED无掩光刻系统

简介

本项目旨在开发基于硅基微显示芯片的无掩膜光刻系统，主要实现高精度的Micro-LED无掩膜光刻功能。系统分辨率大于10微米，能够支持矩形光栅的刻写，满足微纳加工中的高要求。通过精确控制XYZ位移，系统可达到位移重复精度小于5微米。该系统以硅基微显示芯片为核心，适用于显示、光电子及微纳制造等领域。项目的实现将推动Micro-LED技术和相关产业的发展，为高精度光刻需求提供创新解决方案。