基于近场直写微纳喷印的三维光栅喷印工艺及其装置

简介

微纳领域的制造与加工一直都受到国际学术界和工业界的高度重视，超精密制造检测器件——光栅尺的制造是目前在微纳加工的工业制造领域里面的核心领域。 本作品旨在提出一种光栅尺制造方法：以增材制造思路，利用现在倍受国际微纳制造界关注的电流体动力近场直写喷印技术沉积光栅尺栅线，可以直写喷印直径小于5um栅距最小可达1um的聚合物的微纳米结构栅线，是一种具有微线宽、高精度、高速度及高效率的光栅尺栅线制造工艺。