基于刻蚀坑可控生长的极紫外反射元件原子级抛光系统

简介

极紫外反射元件是光刻机核心器件，但超精密抛光工艺对我国技术封锁。我们构建了刻蚀坑可控生长的极紫外反射元件原子级抛光系统：提出刻蚀坑可控生长的原子尺度抛光机制，解决了刻蚀坑的重叠生长难题；构造公自转结合的行星运动机构，解决了副产物堆积导致的不均匀抛光难题；提出反射光照度反馈的在位粗糙度监测方法，解决了酸性腐蚀溶液中抛光状态的实时测量难题。经本系统抛光的光栅微结构指标符合极紫外反射元件的光学性能要求。